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多晶硅超纯水设备

2018-03-05

  多晶硅超纯水设备主要用在多晶硅片清洗中,多晶硅片,半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。

  光伏行业晶体管、半导体集成电路清洗用超纯水设备的原因:

  在晶体管、集成电路生产中,纯水主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制,硅片氧化的水汽源,部分设备的冷却水,配制电镀液等。

  集成电路生产过程中的80%的工序需要使用高纯水清洗硅片,水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属会使绝缘膜耐压不良,重金属会使PN结耐压降低,Ⅲ族元素会使N型半导体特性恶化,Ⅴ族元素会使P型半导体特性恶化,水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20-50%)会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏,水中的颗粒如吸附在硅片表面,就会引起电路短路或特性变差。

  超纯水设备特点:

  1、整体化程度高,易于扩展,增加膜数量即可增加处理量。

  2、自动化程度高,遇故障立即自停,具有自动保护功能。

  3、膜组件为复合膜卷制而成,表现出更高的溶质分离率和透过速率。

超纯水设备

  4、能耗低,水利用率高,运行成本低。

  5、结构合理,占地面积少。

  6、先进的膜保护系统,在设备关机,淡化水可自动将膜面污染物冲洗干净,延长膜寿命。

  7、系统无易损部件,无须大量维修,运行长期有效。

  8、设备设计有膜清洗系统用阻垢系统。

  超纯水设备的主要用途:

  1、超纯材料和超纯试剂的生产和清洗。

  2、电子产品的生产和清洗。

  3、电池产品的生产。

  4、半导体产品的生产和清洗。

  5、电路板的生产和清洗。

  6、其他高科技精细产品的生产。

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